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竹中 博司
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企業について
東京エレクトロン株式会社
東京エレクトロンは、約半世紀にわたり技術革新の激しいエレクトロニクス産業の中でビジネスを展開し、お客様が求める最先端技術製品を最良のサービスと共に提供することにより、半導体およびFPD(フラットパネルディスプレイ)製造装置のリーディングサプライヤーとして社会基盤の構築に貢献してきました。
今後は、さらに地球環境問題への対応として太陽電池産業などの発展が不可欠であり、それらの技術革新を実現するため、私たち製造装置メーカーの責任はますます重大になってきています。
東京エレクトロンは、広くエレクトロニクス産業を支えるグローバル企業として、今後も常にお客様のご満足を第一に考え、チャレンジ精神を絶やさず、未知の世界の開拓に挑戦し続ける先端技術企業でありたいと思っています。
皆様の温かいご理解とご支援を心よりお願い申し上げます。
代表取締役社長
竹中 博司
利用可能
東京エレクトロンの提供するテストシステムは、世界市場で高いシェアを獲得しており、更に高集積・高機能化する半導体デバイスの電気的検査に対応するウェーハプローバが主製品です。
テストシステムとは?
半導体半導体製造装置による様々なプロセスを経たウェーハ上にはICが数百個のICが作られています。ウェーハプローバはテスターに接続されており、ウェーハ上のICの電極に対して針をあて、電気的検査
グループ: エレクトロニクス
利用可能
TEL Epion, Inc. は半導体材料の表面を物理的および化学的に改質したり、不純物をドーピングできる装置を提供します。
nFusion™プロセス装置はロジック、メモリー分野共に、200mmと300mmウェーハに対応可能です。
インフュージョンとは?
インフュージョンとはガスクラスターイオンビーム(GCIB)により、不純物をウェーハ表面に浅く注入するプロセス技術です。GCIBはウェーハ表面の材料を改質させることができるエ
グループ: 家電
利用可能
サーフェス プレパレーションシステムは、高いプロセス性能と信頼性を追及した200mmおよび300mmプロセスに対応するサブクォーターミクロンプロセス量産ライン向けで、トランジスタ形成工程/配線工程における膜付け前後の洗浄、エッチング後の残渣除去、レジスト剥離などに用いられる装置を提供しています。
サーフェス プレパレーション装置とは?
半導体は非常に微細な回路を集積したもので、チリやホコリ
グループ: 水浄化装置
利用可能
東京エレクトロンのエッチング装置は、SAC(セルフ・アライン・コンタクト)、デュアルダマシン、低誘電率の絶縁膜、ゲート、シリコン・ディープ・トレンチ等の広いプラズマエッチングのアプリケーション領域での使用が可能で、高いコストパフォーマンスとチャンバー毎の再現性の高さにより世界市場で高い評価を得ています。エッチング装置とは?
コータ/デベロッパによって現像されたウェーハ上にはフォト
グループ: 半導体
利用可能
コータ/デベロッパCLEAN TRACKシリーズは、ワールドクラスの高いパフォーマンスと信頼性を有し、最先端の露光装置にも対応した200mmおよび300mmウェーハ用レジスト塗布現像装置です。また、コータ/デベロッパCLEAN TRACK ACTシリーズのプラットフォームを採用した低誘電率の層間絶縁膜を塗布方式で成膜するSODコータも併せて提供しています。
コータ/デベロッパとは?
半導体製造装置コータ/デベロッパは、半導体
グループ: 半導体
利用可能
東京エレクトロンは、デバイス製造技術の微細化に伴うプロセス技術の高度化への対応と高速昇降温ヒーターに代表される短TAT(Turn Around Time)技術によって実現される高生産性とを両立させる革新的なプラットフォームTELFORMULAによって熱処理成膜装置に新たな市場を創生しました。そのTELFORMULAで培われた各種要素技術と生産性最大化のコンセプトを継承して開発されたラージバッチ式プラットフォームTELINDYは、主にDRAMやN
グループ: 温度リミッタ